מהנדסים מ־ASML ומ־Carl Zeiss תיארו דור עתידי של מערכות ליתוגרפיה בשם Hyper NA. לפי מאמר שעבר ביקורת עמיתים, המערכת עשויה להדפיס מבנים קטנים יותר מהציוד המתקדם ביותר של היום ולהיות מוכנה בעוד כעשור. חשוב לסייג: ASML החלה בפיתוח, אך עדיין לא התחייבה לייצר את המכונה.
מהי בכלל ליתוגרפיית EUV?
ייצור שבבים מתקדם מבוסס על הקרנת תבניות זעירות על פרוסת סיליקון. מערכות EUV משתמשות באור באורך גל קצר מאוד ובמערך מראות מדויק כדי ליצור את שכבות המעגל. ככל שניתן להדפיס מבנים קטנים וצפופים יותר, ניתן בדרך כלל לשפר ביצועים ויעילות אנרגטית — לצד עלייה עצומה במורכבות ובעלות הייצור.
ASML היא הספקית היחידה של מערכות EUV מסחריות מתקדמות, ו־Zeiss מספקת את האופטיקה הקריטית. הדור הנוכחי המתקדם נקרא High NA, כאשר NA הוא Numerical Aperture — מדד הקשור ליכולת המערכת להבחין בפרטים קטנים.
מה Hyper NA מבטיחה?
לפי המאמר שעליו דיווחה Reuters ב־8 באוקטובר 2026, Hyper NA עשויה להדפיס מבנים בגודל של כ־5 ננומטר, יותר משליש קטן מהיכולת המתוארת של מערכת High NA הנוכחית. אין לבלבל את הנתון הזה ישירות עם שם מסחרי של "תהליך 5 ננומטר": שמות צמתי הייצור של חברות השבבים אינם מדידה אחידה של רכיב אחד.
היתרון האפשרי הוא המשך צמצום המבנים בלי להחליף את כל התשתית. מחברי המאמר כתבו שמקור האור הקיים של ASML עשוי להתאים גם ל־Hyper NA, ושהמראות הנדרשות כבר נמצאות בטווח היכולת של Zeiss. המכונה עדיין צפויה להיות עצומה, אך לפי התיאור לא תהיה גדולה בהרבה ממערכות High NA, שגודלן דומה לאוטובוס דו־קומתי.
למה נדרש עוד עשור?
מעבר מתכנון אופטיקה למכונת ייצור סדרתית דורש פתרון של שורה ארוכה של אתגרים: דיוק מראות, יציבות במהירויות גבוהות, מסכות, חומרים רגישים לאור, מדידה, תחזוקה ותפוקה כלכלית. מספיק שרכיב אחד יהיה איטי או לא יציב כדי שהמערכת לא תתאים למפעל שמייצר אלפי פרוסות.
ASML גם לא התחייבה למסחור. לוחות הזמנים בענף משתנים, ויצרני שבבים יכולים לבחור לשפר ארכיטקטורות תלת־ממדיות, אריזה מתקדמת ושיטות patterning קיימות במקום לאמץ מיד מערכת חדשה ויקרה.
High NA עדיין רק בתחילת הדרך
עוד לפני Hyper NA, התעשייה צריכה להטמיע את High NA. לפי Reuters, אינטל כבר החלה להשתמש בציוד בייצור, Samsung ו־SK Hynix מתכננות צעדים ב־2028, ו־TSMC ב־2030. אלה תוכניות שעשויות להשתנות, אך הן ממחישות כמה ארוך מחזור האימוץ.
הביקוש לזיכרונות ומאיצי AI הוא אחד המניעים להשקעה בציוד מתקדם. מוקדם יותר דיווחנו כי Samsung צופה זינוק ברווחים בזכות זיכרונות AI. עם זאת, ליתוגרפיה מתקדמת אינה מיועדת רק ל־AI: היא משפיעה גם על מעבדים, תקשורת, מובייל ורכיבים חסכוניים באנרגיה.
מה זה אומר לשוק השבבים?
- ל־ASML: מסלול טכנולוגי אפשרי לשימור היתרון שלה גם בעשור הבא.
- ליצרנים: פוטנציאל ליותר טרנזיסטורים וביצועים, אך גם השקעות הון גבוהות ותהליך אימוץ ארוך.
- לספקים: הזדמנות באופטיקה, מקורות אור, חומרים, מדידה ותחזוקה.
- ללקוחות: אין סיבה לצפות למוצרי Hyper NA בשנים הקרובות; ההשפעה, אם תתממש, תהיה הדרגתית.
השורה התחתונה
Hyper NA היא כרגע מפת דרכים הנדסית ולא מוצר מסחרי. הטכנולוגיה עשויה להמשיך את יכולת המזעור של תעשיית השבבים, תוך שימוש בחלק מהתשתיות שכבר פותחו ל־EUV. אבל הדרך ממאמר מדעי למפעל פעיל ארוכה, ו־ASML עצמה עדיין לא התחייבה לייצור. לכן נכון לראות בה איתות לכיוון שאליו התעשייה בוחנת להתקדם — לא הבטחה למועד או לביצועים סופיים.
מקור: Reuters, 8 באוקטובר 2026.
תמונת המחשה: נוצרה באמצעות AI עבור מערכת ITPortal.
